出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性
| 字词 | 物理气相沉积 |
| 释义 | 物理气相沉积 物理气相沉积 采用蒸发或溅射等物理方法，使膜料汽化成原子、分子或使其电离成离子，通过气相反应过程在工件表面沉积形成膜层的工艺过程。 出处：材料科学卷 • 金属材料 • 表面改性 物理气相沉积 英语缩写PVD（physical vapor deposition）。在真空条件下，采用物理方法，将材料源汽化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过气相反应过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。主要方法有真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。不仅可沉积金属膜、合金膜，还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 物理气相沉积 采用蒸发或溅射等物理方法，使膜料汽化成原子、分子或使其电离成离子，通过气相反应过程在工件表面沉积形成膜层的工艺过程。 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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