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浅沟槽隔离
释义
浅沟槽隔离
信息科学卷
浅沟槽隔离
利用氮化硅掩模经过淀积、图形化、刻蚀硅后形成浅的沟槽,并在槽中填充淀积氧化物,用于与硅隔离的工艺。主要步骤包括槽刻蚀、氧化物填充和氧化物平坦化。通常用于0.25微米以下工艺。
出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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更新时间:2026/3/18 8:04:30