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接近式光刻
释义
接近式光刻
信息科学卷
接近式光刻
曝光时,掩模版与光刻胶层略微分开(大约为10~50微米的距离)的光刻技术。可避免与光刻胶直接接触而引起的掩模版损伤。但同时引入衍射效应,降低了最大分辨率,仅为2~4微米。
出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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-рую, -руешь; -рован-ный〔未〕проштуд`ировать, -рованный〔完〕кого-что〈书〉仔细研究,钻研,攻读. ~ кл`ассиков钻研经典作家的著作. ~ матем`атику钻研数学. 的意思
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更新时间:2026/7/31 22:59:12